追求合作共贏
Win win for you and me售前售中售后完整的服務體系
誠信經(jīng)營質(zhì)量保障價格合理服務完善當前位置:首頁 > 產(chǎn)品展示 > > 沉積系統(tǒng) > 感應耦合電漿化學氣相沉積設(shè)備
簡要描述:感應耦合電漿化學氣相沉積設(shè)備是一種使用ICP的化學氣相沉積技術(shù),可為沉積反應提供一些能量。與PECVD方法相比,ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不會降低薄膜質(zhì)量。因使用ICP做為電漿源,有電漿濃度較高、能量損耗較低、功率較大與反應速率較高等優(yōu)點。
產(chǎn)品分類
Product Category相關(guān)文章
Related Articles詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子 |
---|
ICP-CVD 感應耦合電漿化學氣相沉積設(shè)備(ICP-CVD)是一種使用ICP的化學氣相沉積技術(shù),可為沉積反應提供一些能量。與PECVD方法相比,ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不會降低薄膜質(zhì)量。因使用ICP做為電漿源,有電漿濃度較高、能量損耗較低、功率較大與反應速率較高等優(yōu)點。
SYSKEY感應耦合電漿化學氣相沉積設(shè)備的ICP-CVD可以精準的控制製程氣體與監(jiān)控其數(shù)據(jù)(壓力、載臺溫度),並提供高品質(zhì)的薄膜。
應用領(lǐng)域 | 腔體 |
|
|
配置和優(yōu)點 | 選件 |
|
|
產(chǎn)品咨詢