ALD實時監(jiān)測儀RTM

ALD實時監(jiān)測儀的優(yōu)勢

工藝開發(fā)與優(yōu)化

使用單一ALD循環(huán)可快速和簡易地開發(fā)和優(yōu)化ALD工藝。ALD實時監(jiān)測儀顯示了高達40ms分辨率的吸附和解吸過程。顯著節(jié)省了研發(fā)時間，襯底，前驅(qū)體和氣體。

節(jié)省前驅(qū)體

通過ALD實時監(jiān)測儀，ALD工藝變得更加有效。節(jié)省了前驅(qū)體和工藝時間。

前驅(qū)體控制

當前驅(qū)體供應快要用盡時，ALD實時監(jiān)測儀會立即檢測到的每個周期的增長變化。

SENTECH ALD實時監(jiān)測儀是一種新型的光學診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ALD循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長速率，厚度，折射率)，在短時間內(nèi)開發(fā)新工藝、實時研究ALD循環(huán)中的反應機理是SENTECH ALD實時監(jiān)測儀的主要應用。

創(chuàng)新的ALD實時監(jiān)測儀是特別為快速和有效的工藝開發(fā)而設計，可優(yōu)化SENTECH原子層沉積設備。該軟件使SENTECH ALD系統(tǒng)和ALD實時監(jiān)測儀易于操作。ALD實時監(jiān)測儀集成到SENTECH ALD系統(tǒng)軟件中，確保操作簡單。